Впервые исследовалась динамика анизотропного локального плавления имплантированного кремния в раз-личных режимах светового облучения. Образование и рост локальных областей плавления (ЛОП) во время импульсного светового облучения регистрировались скоростной кинокамерой. Впервые зависимость количества и размеров ЛОП от времени была исследована в динамике.
Получена дополнительная информация о дефектообразовании в имплантированных полупроводниках в процессе облучения импульсами света.